低压驱动电光调制器

横向场ADP、KD*P和铌酸锂类似物调制器

ADP

ADP调制器可以被设计为在从UV到可见光直至900nm左右的所有波长下工作，并且基本上不受压电谐振的影响。这种调制器类型具有高度的温度稳定性，但如果需要长期直流振幅，则应在恒温环境中运行。调制频率不受器件特性的限制，而受其电容的限制，因此取决于所使用的驱动电路。宽带AR涂层用于所有组件，或者我们可以提供流体填充版本，包括超高传输类型。

ADP设计的一个特点是，由于光学传播不是沿着对称轴进行的，所以普通偏振光会“走光”，因此有必要使用四个匹配的晶体，适当地定向，以补偿走光和静态双折射。这确实会对最大传输产生轻微影响，因为与其他调制器类型相比，晶体表面的数量是前者的两倍。

KD*P

横向KD*P电光调制器能够提供比ADP型更高的热稳定性，这主要是因为它们不需要相同的四晶体排列。透射范围也扩展到约1200nm，并且其消光比也比从ADP对应物获得的消光比更好。然而，它确实显示出压电特性，因此对于数百kHz到低MHz范围内的高频调制来说不是一个很好的选择，尽管使用谐振阻尼技术可以提高这里的性能。这些设备也可以提供干燥的适当AR涂层或流体填充，包括超高传输版本。

铌酸锂

铌酸锂是一种高温生长的光学材料，与ADP和KD*P晶体不同，它不溶于水。尽管它在500nm以下（以及高达~800nm，请注意仅使用低光功率）无法安全运行，但在该范围以上，它具有良好的透明度，可达~4µm。为了获得最佳的热稳定性，最好使用Z形切割晶体，这是我们的标准设计，并且没有需要补偿的静态双折射。然而，使用双折射补偿X切割设计可以获得更高的灵敏度。这种切割也用于不需要这种补偿的相位调制器。

不幸的是，铌酸锂是非常强的压电性的，这会限制其在需要良好时间性能的某些应用中的使用。电池干燥后在晶体和窗户上涂上合适的AR涂层（尽管技术上并不总是需要，但这些涂层用于密封电池以防灰尘等）

应用

通过使用较低的工作电压，可以更容易地找到具有足够带宽的驱动器。对于EM200系列调制器，M250通常足以提供完整的调制（但最长波长仅为~700nm）。对于较大的EM400和EM600设备，可以使用较新的M1000甚至M2500放大器，但这些放大器的带宽确实略为有限。原理应用通常是需要真正的模拟调制（任意波形）的任何地方，例如产生任意偏振旋转（需要额外的波片来保持线性偏振）。它们还可用于从需要脉冲脉冲强度控制的CW激光源产生脉冲输出，这是伴随放大器可以轻松提供的。